上海微电子28nm光刻机 在国内相关领域是个什么水平

2024-05-19 15:10

1. 上海微电子28nm光刻机 在国内相关领域是个什么水平

 上海微电子28nm光刻机,上海微电子在国内光刻机领域确实走在了前面,根据有关消息,上海微电子将在明年交付首台国产的28nm光刻机,真的非常不易。
    
  光刻机进入普通老百姓视野,主要是因为ASML生产,可以用来支撑5nm/3nm的EUV光刻机,但是以中芯国际为例,目前营收的大头,依然来自40nm及以上的工艺制程,最先进的14nm制程贡献的营收还是比较小,所以说28nm光刻机已经可以完成80%以上的流片需要。
  这个具有非常重要的战略意义,就是说在极端情况下,我们不至于完全生产不了任何芯片。
    
  再来看上海微电子在国内相关领域是个什么水平?
  目前上海微电子作为国内光刻机领域当之无愧的带头大哥,占据国内80%以上光科技市场,相关专利申请超过2400项,已经形成了非常高的专业壁垒,暂时看不到可以挑战的企业,可谓是一家独大,但是可以说,上海微电子承担的责任更大,特别是当前的大环境下面,制程工艺向下走,突破的难度越来越大了。
    
  小结  上海微电子作为国内光刻机领域的领军单位,目前的形势,既是挑战,也是机遇了。
  首先上海微电子可以生产光刻机确实已经不是什么惊天秘密了,因为他早在2002年就有成立了,很多人也许没有听说过,原因实际就在于工艺方面相对落后,所以不被人们所熟知,因为确实相对于现在手机处理器方面的工艺来说,他目前最高可以生产90nm的技术,确实有些不够看,但是在国内确实是顶尖的存在。
    
  国内做光刻机的厂商之前确实有很多,但是大多数还是在130nm甚至280nm左右,而要说发展比较不错,工艺响度较高的就是上海微电子了。而从全球市场来看,中国光刻机工艺不算是落后,也不算是太强。   一方面是因为,确实做光刻机的国家确实不多。之前的市场,荷兰的ASML,以及日本的佳能,尼康等等。ASML的成功源自于他吸收了各个行业的精英,要想使用就要入股,同时他使用的技术,比如计量设备和光源来自美国、镜头和精密仪器来自德国、轴承来自瑞典等等,他们都是行业的翘楚,之所以如此,他才发展到现在的强大。 
  而日本尼康和佳能,确实也算是佼佼者,因为日本本身做精密电子技术确实很强,再加上光刻机所需要的镜片,以及光源等等,确实对于做相机出身的佳能和尼康来说,并不算是难事,但是现在佳能和尼康已经退出了光刻机市场,原因就在于没有了市场,高不成低不就,虽然不错,但是相比ASML确实有很大差距,所以销量很低,本身光刻机确实每年生产数量有限,再加上设备价格相对比价高,如果没有订单,或者是订单较少,确实就意味着只能淘汰出局。所以说起来现在,做光刻机的国家确实屈指可数。
    
   二方面,也是因为我们刚才说的,现在光刻机市场确实基本上被ASML垄断了,所以竞争者很少。另外一个方面根据最新的报道称,上海微电子28nm工艺即将到来,虽然没有权威的出处,但是对于我们来说也算是增加了信心,毕竟这是一个大的跨越,因为光刻机的研发实际是分为阶段性的,理论上90nm接下来应该是60nm、45nm、40nm,接下来才是28nm,而这次上海微电子直接从90nm到28nm,确实可见其实力。如果28nm研发成功量产的话,确实我们光刻机技术在世界上就算是站稳了脚跟。 
  光刻机工艺方面确实难度比较大,比如零件甚至达到了10万个左右,同时需要系统协同工作,但是最重要的几个方面,我们已经慢慢在解决,比如这次28nm工艺的背后实际就是我们的企业,有北京科益虹的光源系统、国望光学的镜头、华卓精科的浸入式双工作台、浙江启尔机电的浸液系统等等。
    
  我们现在顶级的差距还是比较大的。现在ASML最高可以生产5nm工艺,而且产品方面,比如苹果12上面的A14处理器,以及华为麒麟处理器9000系列都是5nm工艺,而我上海微电子即便是28nm开始量产,之后还是有很长的路要走,比如16nm/14nm,10nm,以及7nm,以及包括EUV极紫外刻技术目前来说确实也很难去解决。
    
  总结和观点:  首先我国可以声场光刻机已经是很早之前的事情了,只是因为工艺方面的差距,所以并不能用在,我们日常使用的电子产品中。另外一个方面在于本身光刻机技术方面确实要求极高,同时因为《瓦森纳协定》中规定高端设备或尖端技术对我国进行出口管控或技术封锁,导致我们只能进行自研发,所以和ASML相差有点大,
  

上海微电子28nm光刻机 在国内相关领域是个什么水平

2. 如何看待爆料上海微电子明年将交付28nm光刻机一事?是否属实?

对于28nm光刻机事件有着不少的质疑声,怀疑会不会是骗钱项目。目前消息并没有被证实。
老美对华为的芯片封锁,让国内大批网友开始持续关注国内芯片行业的发展。希望华为能够顺利渡过难关的同时,也希望我国的芯片技术能够快速壮大和发展,把高科技技术产业的命脉掌握在自己手里。
近日网上爆出荷兰阿斯麦将停止向中国出售可以生产28nm的EUV光刻机的消息,毫无疑问这是阿斯麦在被老美威逼利诱下作出的决定。

事实上,高新技术产业迅速发展下的中国对于28nm芯片的需求量十分巨大,这让阿斯麦始终把中国作为重要的大客户,来自中国的的订单在阿斯麦的营收中占有相当大的比重,而切断与中国的合作这对于阿斯麦来说无疑是“自断一臂”的做法。
曾表示虽然国内目前有许多企业已经掌握了比较成熟的28nm制作技术,但是在光刻机的研发制作方面技术还不够成熟,短期内国产光刻机的产能无法满足国内市场的需求。

3. 上海微电子已经成功生产光刻机了么?这个领域国内是什么水平?

说到光刻机,那就是国人的痛处,毕竟被卡脖子的感觉真的太难受了,其实我们在半导体领域被卡脖子的不只是光刻机,半导体产业链里面,我们能够自主掌握技术的不到一半,还有一半要靠外国的先进设备和技术做支撑,认为只要突破光刻机技术就能不受到卡脖子,那其实就有点想的太简单了。

光刻机的确是非常重要的环节,曾经在六十年代的时候,我们的光刻机水平其实并不比欧美的差,在六十年代的时候,我们的机械领域其实也并没有说落后太明显,只是在特殊的十年当中,导致了我们落后,这还只是开始,在八十年代的时候,由于西方先进产品进入国内市场的影响,又导致了我们在八九十年代错过了机会。
这样总共失去三十年的时间,就是因为这样才导致了中间的空白期没办法弥补,就算我们后面这二十年的时间在发力,但是也很难真正的短时间内赶上,毕竟别人也并没有在原地踏步,我们在进步别人也一样在前进,中间还存在着代差,加上原本工业基础的薄弱,才有了现在的这种情况。

目前市场上我们能够自行生产的光刻机精度只有90纳米级别,中芯国际升级的14纳米技术其实并不是我们自己生产的设备,这个就很尴尬了,虽然说上海微电跟科学院联合研发出来了28纳米的光刻机技术,但是这个目前来说也只是在实验室里面的数据,离组装到现实中使用,还不知道要到什么时候。
荷兰的阿麦斯光刻机,已经拥有了5纳米的生产技术,已经正式投产使用,想象一下中间还有14纳米的门槛和7纳米的门槛,现在中芯国际使用的光刻机还是人家的淘汰品,在我们手中现在可是当做宝贝一样,可想而知差距有多大了吧,光刻机技术我们最多现在在第三的位置。
因为荷兰阿麦斯公司的光刻机肯定是金字塔顶端的存在,这个是万国科技结合的产品,在第一的位置实至名归,第二梯队是日本和美国,自身有研制出来14纳米技术的光刻机的实力,这个也是实至名归的,我们现在能自行研发28纳米的技术,算是第三梯队的,这个其实已经很不错了。

毕竟全世界有能力自行研制高精度光刻机的国家一个手掌都能数出来,我们就是其中之一,虽然水平和差一些,但是这也证明了我们自身有这个能力,只是在主要部件上面是不是能实现国产化,这个才是最重要的,不然主要部件用别人的回来组装,会被别国禁止使用,像美国禁止中芯国际一样。

上海微电子已经成功生产光刻机了么?这个领域国内是什么水平?

4. 上海微电子光刻机产量

用媒体报道的话来说就是,一年卖出60台光刻机中国光刻机巨头崛起,独占80%中国市场!这家巨头名为上海微电子,是国内仅有的一家光刻机制造商,目前已经牢牢占据了中国市场,即便是ASML也无法动摇上海微电子在国内的地位。

中国光刻机巨头崛起

据了解,在过去的2020年里,全球的光刻机厂商一共卖出去了413台中低端或高端的光刻机。其中ASML作为行业的领先者,自然享有最大的话语权和最高的营收利润,毕竟台积电、三星等顶尖芯片代工厂最需要的就是ASML的EUV光刻机。

但是国内的上海微电子也不甘示弱,即使无缘高端光刻机市场,也做出了一番成绩。据悉,2020年上海微电子一共卖出去了60台光刻机,独占80%的中国市场。虽然这些光刻机基本上都是普通的DUV型号,但足以证明上海微电子的进步和实力。

要知道,上海微电子成立于2002年,距今还不到二十年的时间。而反观ASML公司则诞生于上个世纪九十年代,其历史和底蕴都要比上海微电子更深厚。所以如今上海微电子能取得这么大的突破已经是非常好的消息了,将来未必不能超越ASML。

对于我们国内而言,上海微电子一年卖出去60台光刻机,自然是一件好事。因为上海微电子的销量增加不仅代表着国内芯片产业自主化的提高,还预示着以后国内将会继续加大对光刻机领域的投资力度,致力于实现高端光刻机的自给自足。

5. 上海微电子光刻机在全球属于哪种水平?你知道吗?

光刻机市场被荷兰ASML、日本尼康和佳能、中国上海微电子设备集团四家垄断。 其中,再分为三个阶段,荷兰的ASML垄断了高端光刻机市场的份额,日本的尼康和佳能位居中端,但同时也在与中端市场竞争,而上海的微电子则是低端光刻机市场其中ASML采用13.5nm的光源,可以实现7nm的工艺,未来可以实现更小的nm工艺,上海微电子目前只能实现90nm的工艺,差距不大,光刻技术克服后,实现光刻机批量生产还有一段时间,特别是需要数万个零件达到高精度的高端光刻机,其中关键的高精度零件,如透镜、光源、轴承等。
目前国内产业链还达不到,必须突破共同难关才能取得,这需要相当长的时间正如中国科学院微电子所院士所说,在光刻机方面国内与国外先进相比相差15-20年的距离。 即使是国内最先进的上海微电子,也还有相当长的路要走。 荷兰的ASML在该公司最先进的光刻机中采用了EUV光源,实现了7nm芯片的制造。 该公司每年只能生产20台以上的光刻机,价格高达数亿美元。 就算有钱也不一定能买到。 
光刻机是由数万个精密部件、数百个驱动器传感器、千万行代码构成的超复杂的思维系统,内部运动精度误差不到一根头发的千分之一。 以光刻机为代表的产品主要应用于四个领域:芯片制造、芯片先进封装、LED制造、新一代显示器制造。 即使是同一个光刻机,前台产业化应用难度也非常大,但由于后置先进封装在光刻机上的应用已经广泛,可以率先进入,SMEE抓住这个契机,开发了适合先进封装行业的光刻机。 

上海微电子光刻机在全球属于哪种水平?你知道吗?

6. 热点早解读:28nm光刻机有消息了。不管前途几何,都不能放弃

  一、热点消息 
   今年,我国半导体产业已有不少好消息陆续传出。
   被提及最多的光刻设备方面,近来有消息称上海微电子即将于
   2021年交付首台国产的 28nm 光刻机。
     
        
   再来看,之前的美国的制裁吧:
    5月12日,美国半导体制造商LAM、AMAT等公司发布函件,要求中国的军用产品代工厂不得使用美国半导体来生产军用集成电路,同时启用“无限追溯”;5月15日,美国商务部产业安全局将华为及其在“实体清单”上的关联公司的临时通用许可证延期了90日,要求华为设备使用商者尽快寻找替代商。 
     
    二、形势不容乐观,但是28nm够用么? 
   很多人默默地打开了自己刚刚购买的新电脑
   查看配置,处理器选项。
   什么!才28nm,老子的锐龙处理器都7nm了,
   停停停,先听我说完
     
      或许在许多人看来28nm制程工艺相比7nm还相差甚远,
   但实际上是一个分界点,
   像是物联网、家电、通信、交通、航空航天等领域,已能满足
   那就是满足了市场上的大部分需求。
     
      从2019年全球晶圆代工产能分布,
   包括我国每年进口的3000亿美元芯片中也可以看到,
   28nm以上制程才是主流。
     
    所以,这意味着 
   一旦完全掌握28nm芯片制造技术,我们很大程度上就能满足国内发展所需。
   现在知道了吧,这比自己玩得爽的手机、电脑可不一样。
     
    三、我们的芯片大多来自哪里? 
    1、我们拿货真多,却不能自给 
   根据第三方数据,仅2019年我国的芯片进口额就突破千亿美元,
   作为全球最大的芯片进口国。
   但是,我国每年的芯片自给率却不足30%。
     
    2、谁掌控了这芯片 
   为了改善这一局面,不少企业投身芯片行业,但在芯片制造领域却很难有突破,
   其中,最最主要的拦路虎,就是大BOSS“光刻机”
   而在光刻机领域,荷兰ASML是当之无愧的巨头。
   在华为被接连的芯片被动挨打中,他们俩的名号也算了普及到很多人了。
     
       全球范围内能够生产出高端芯片的光刻机,只有荷兰ASML ,
   大家记住哈~它是唯一的,
   而且还每年限制产能,所以想给谁,想多少钱给,它说的算。
     
        
    四、我们得自己造呀 
    1、放心,已经再造了 
   今天只说他们家。
        
   好在,经过十余年的发展后,我国在光刻机领域也诞生了一位新巨头。
   上海微电子装备有限公司,2002年开始生产研发光刻机
   在短短18年里,他们创下了3200项专利,
   成功打破技术封锁,造出中国最先进的光刻机,
    目前,已经实现90nm光刻机的量产。 
     
   哎!反正你们看不上,
   那不如我再多说一点。
     
        
    2、那什么水平? 
   只相当于荷兰ASML15年前的水平!
     
      但是,
   ASML光刻机的技术虽然先进,但集结了以美国为首的多国结晶,
   例如美国的光学设备、德国的蔡司镜头。
   多达5万多零部件,也大多依赖进口。
     
    上海微电子,生产的光刻机设备却是自主研发和创新。 
   民族热情高涨,来点掌声!
     
       3、怎么解读这28nm 
   对内:政府的扶持(列入国家863重大 科技 攻关计划,国家重大 科技 专项02的项目之一),
   对外:《瓦森纳协定》对华高 科技 出口管制。
     
   与ASML的众星捧月不可同日而语。
     
   公司高层在接受采访时表示:
   “2007年,当光刻机的第一束光曝出来时,我们都热泪盈眶。”
   “没有人才团队,没有技术积累,没有配套的供应链。
   西方国家对这一技术限制很多。” 
     
    目前,团队还在超1000个技术与管理人才的共同努力下,全力追赶ASML, 
    而光刻机制造对资金以及技术积累要求苛刻,请多给一点时间! 
     
      虽然即便是28nm技术。
   但倘若28nm沉浸式光刻机可顺利交付,
   这将把我们的芯片事业推进到一个崭新的高度。
     
   未来可期,未来可待!
最新文章
热门文章
推荐阅读